新石墨舟和使用三年以上的旧石墨舟饱和后，进行PECVD表面镀膜。 新型石墨舟的表面平整度好，石墨舟的导电性一致，塑料薄膜的分子结构可以均匀地沉积在硅片表面，片间均匀性更好。 在新的石墨舟饱和后，部分等离子技术在沉积过程中仍沉积在石墨舟上。 当工作频率低于30次时，随着工作频率的增加，沉积在石墨舟上的等离子技术降低，片间均匀度增加。 好的。 工作频率超过30次后，随着应用频率的增加，石墨舟内腔与硅片边缘之间的塑料薄膜变厚，静电场变强，产生大量 低温等离子沉积，容易出现不同程度的问题。 边缘发白，导致膜间均匀度下降很多倍。